Descripción de productos
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El horno de oxidación y difusión es un equipo de proceso clave para la producción de células fotovoltaicas. Mezcla y difunde trazas de boro, fósforo y otros elementos en la oblea de silicio a altas temperaturas para preparar uniones PN y compone circuitos integrados a partir de ellas. También se puede utilizar para preparar pelÃculas de SiOx en la superficie de la oblea de silicio para proteger las obleas.
Es común utilizar termopares que miden tanto la parte interior como la exterior del horno para controlar la temperatura interior del horno de difusión que podrÃa realizar el proceso de oxidación. Cada zona de temperatura especificada tiene un termopar externo e interno para garantizar que los resultados de la medición sean confiables. Los termopares internos se utilizan para medir la temperatura de la oblea; comúnmente tienen de 3 a 9 puntos de medición, que representan la temperatura de la oblea con precisión. Los termopares exteriores se utilizan para detectar la superficie exterior del tubo del horno; cada uno normalmente tiene solo un par de cables, para dar una medición indirecta del horno. Por lo general, la temperatura del proceso de oxidación es más baja que la del proceso de difusión, por lo tanto, se podrÃa implementar un termopar bf multipunto principal tipo K y N.
Parámetros técnicos | Termopar bf multipunto principal |
Adentro | |
Tipo | K,N |
Diámetro del cable o MIMS | φ2~4 |
Temperatura de trabajo (grados) | 0~950 |
Precisión (grado) | ±1,5 o 0.4%·t |
Longitud del tubo protector (mm) | Menor o igual a 4000 |
Diámetro del tubo protector (mm) | φ14~22 |
Material del tubo protector | 310S o 321 |
Estructura del extremo caliente | Aislado |
Número de puntos | 3~9 puntos |
Terminación | Conector pequeño |
Cable de compensación | KX(NX){{0}}×0,5FPF |
CaracterÃsticas de la estructura | Fácil de desmontar, el T/C de cualquier punto se puede quitar si es necesario |
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